点击图片查看原图Hellma Materials CaF2多年来一直被用作半导体生产微光刻的光学关键材料。
CaF2 是投影和照明光学中准分子激光光学器件的行业标准材料。CaF2 独特的光学特性可实现各种高级应用。
技术优势：
Hellma Materials 的 Lithotec® CaF2 具有独*的光学特性：
从深紫外到红外（130nm至8μm）的高宽带透射率
低折射率 （nd = 1.43384）
低光谱色散 （vd = 95.23）
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准分子激光光学器件（157nm、193nm、248nm）具有出色的激光耐久性
对高能颗粒和辐射的合格抵抗力
直径可达420mm
沈阳汉达森YYDS曹
应用领域：
红外光学元件
用于天文仪器的光学元件
天基光学器件
显微镜光学元件
光谱光学
紫外光学
激光窗口
准分子激光光学
微光刻光学
德国Hellma氟化钙晶体材料CaF2的光学特性